最新版の Mari でテクスチャをレベルアップ

Mari 4.5 から始まったMari 4.6 での多彩なマテリアルシステムの導入からジオチャネルの追加まで、Mari 4.7ではテクスチャリングとルック開発の技術をさらに進化させています。

新しいプロシージャルマスクワークフロー、改良されたシェルフパレット、マテリアルシステムの強化により、アーティストは最新の開発を楽しむことができ、息をのむようなテクスチャを簡単に作成し続けることができます。

Mari 4.7 新機能

プロシージャルマスク

新しいプロシージャルマスクワークフローを使用して、各レイヤがアセットの外観に影響を与える場所をすばやくブロックします。この拡張されたワークフローにより、アーティストはプロシージャルマスクのプリセットを作成、共有、および使用することができます。また、ジオチャネルを利用して、マスクをアセットのフォームにプロシージャルに適合させることができます。

詳細はこちら(英語マニュアル)

カスタムプロシージャル

全く新しいプロシージャルマスクのワークフローが拡張され、アーティストがカラーやスカラーチャンネルのレイヤーとしてカスタマイズされたプロシージャルプリセットをオーサリング、共有、使用できるようになりました。プリセットを素早く簡単に適用することで、アーティストはアセットのチャンネルのルックをプロシージャルにブロックすることができます。

詳細はこちら(英語マニュアル)

リフレッシュされたシェルフ

改良されたシェルフで、アーティストのライブラリを指先で操作できるようになりました。刷新されたUIでは、ナビゲーションペインが追加され、Mariの以前のシェルフパレットの煩雑さが解消されました。さらに、シェルフのアイテムには、サムネイルのサイズを調整できるようになったほか、新しいグラフィカルなツールチップが追加されました。

詳細はこちら(英語マニュアル)

マテリアルの分離

この新しいシェーダー モードでは、アーティストはレイヤーの可視性設定を変更することなく、マテリアルを分離して表示することができ、完全なライティング レスポンス コンテキスト内でマテリアルを微調整することができます。

詳細はこちら(英語マニュアル)

ベイク ポイントからテクスチャ ストリーミング

ルック開発アーティストは、Bake Point でエクスポートされた画像ファイルを変換して、すべての更新のバックグラウンドでエンジンのネイティブテクスチャ形式をレンダリングするコマンドラインプロセスを含めることができるようになりました。これにより、アーティストはMariテクスチャデータをKatana内部のテクスチャシェーディングノードに直接ストリーミングできます。

詳細はこちら(英語マニュアル)

マテリアルのベイクポイント

Material Bake Pointノードには、スプレッドシートスタイルのUIが搭載されており、マテリアルのストリームの複数のプロパティを一括で編集してベイクすることができます。Mari 4.7 では、新しいMaterial Isolationモードとの組み合わせにより、アーティストが利用できるマテリアルの数が大幅に増えました。

詳細はこちら(英語マニュアル)

ノードグラフの改善

Mari のノードグラフには、ノードの選択、ナビゲーション、移動のための新しいキーボード修正ジェスチャーが追加され、マルチチャンネルのマテリアルノードで作業する際のチェーンノードの作成がよりスマートになりました。

詳細はこちら(英語マニュアル)

刷新された Python コンソール

刷新された Python Console では、開発者の生活の質を向上させる一連の機能が追加され、複数のスクリプトスニペットを管理する際のパイプラインTDの柔軟性が向上しています。また、より広範なスクリプト編集のための新しいショートカットも追加されています。

詳細はこちら(英語マニュアル)

カスタマイズ可能なドラッグ&ドロップ

パイプラインTDは、新しいAPIフックを使用して、スタジオのパイプライン用に無限のドラッグ&ドロップワークフローを作成できるようになりました。また、Mariはパレットにカーソルを合わせている間、指定されたデータ型をネイティブデータとして扱い、パイプラインとのよりシームレスな統合を可能にします。

詳細はこちら(英語マニュアル)

関連記事

Mari 最新情報 & 戦国武将メイキングセミナー(Zoom ウェビナー)【12月19日(土)スタート!】

Mari 最新情報 & 戦国武将メイキングセミナー(Zoom ウェビナー)開催! Foundry社、3Dペイントツール「M…